美国禁令正式生效，华为已陷入芯片断供的艰难处境。而近日，中科院院长白春礼表态称：“我们把美国卡脖子清单变成了科研任务清单，将把光刻机放在我们重点关注领域”。

光刻机是芯片光刻工艺的核心设备，价值含量和技术要求极高。一台光刻机包含上万个零部件，其中涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。荷兰ASML之所以能独霸高端光刻机市场，关键因素之一就是光刻产业链的贯通。

因此，虽然上海微电子是国内光刻机最前沿公司，其目前最先进的光刻机制程可达到90nm，但是光刻机的国产化攻坚不仅仅需要上海微电子的设计和总体集成，还需要国内产业链各环节的共同努力。

作为光刻机产业链中的一员，茂莱光学目前生产的半导体光学透镜被应用在光刻机光学系统中的耦合、中继照明模块，是光刻机实现光线均匀性的关键模块，为提高光刻机国产化率提供了必要支撑。

其实，半导体透镜只是茂莱光学众多产品中的一个，作为精密光学综合解决方案提供商，茂莱光学的主要产品包括精密光学器件、高端光学镜头和先进光学系统三大类，应用领域非常广泛，覆盖了半导体光刻机及检测装备、生命科学及医疗、航空航天、AR/VR 检测设备等众多高端科技应用领域。

深耕精密光学行业20载，凭借多年技术积累，茂莱光学不仅收获了上海微电子、北京空间机电研究所、微软、Facebook、IDEMIA等一众国内外优质客户，还荣获了“国家科技型中小企业”、“江苏省高新区瞪羚企业”等荣誉奖项。在高科技、高附加值的工业级精密光学领域，茂莱光学与美国Newport、德国Jenoptik这些全球精密光学行业的标杆企业展开直接竞争。

回顾精密光学行业和茂莱光学的发展历程，我们试图探究茂莱光学成长的驱动因子，它何以获得众多优质客户的青睐？未来，又能否实现精密光学技术的持续突破？

工业级定位迎空间释放

提起全球精密光学器件的产业布局，第一阵营无疑是以徕卡（Leica）和卡尔•蔡司（Carl Zeiss）为代表的德国老牌精密光学巨头。尤其是蔡司的镜头，与硅谷光科集团的微激光系统和Cymer的EUV极紫外光源并称EUV光刻机10万个零件中最重要的三环。

第二阵营来自于以佳能、尼康、富士等为代表的日本精密光学企业，在第二次世界大战之后，日本精密光学工业以其具有吸引力的性价比优势进步迅速。

为进一步降低制造成本，日本的精密光学技术逐渐向邻近国家和地区扩散，此后在中国台湾、韩国、中国大陆的生产规模日益扩大。近年来，随着全球光电产业结构调整加快，中国大陆逐渐成为世界精密光学的生产基地。

成立于1999年的茂莱光学受益于这波产业链迁移浪潮，在过去20年间发展壮大。

成立初期，茂莱光学以研发和生产定制类精密光学器件为主，在与工业测量巨头徕卡测量的合作中，茂莱光学在高精度光学器件加工工艺方面积累了丰富经验，随后进一步扩大产品品类，拓展出了高端光学镜头和先进光学系统这两块新业务，极大丰富下游应用场景。

近年来，全球精密光学发展迅速。VDMA数据显示，2017年全球精密光学产业市场规模约为5300亿欧元，到2022年这一规模将达到8000亿欧元。根据中国光学光电子行业协会统计，2019年中国光学元器件市场规模为1300亿元，较2018年增长85.71%。